DIC 2024展商丨越好电子，国产真空镀膜设备主力军

01 G8.6阵列式磁控溅射镀设备

倾斜式腔体配合三明治基片架的设计让玻璃传输更加稳定，降低破片率至10ppm；配置阵列式阴极，实现静态镀膜的同时也极大降低了尘粒对产品的影响；高精密遮罩的设计以及独特的靶基距调整机构，可避免绕镀现象，真空内双轨平行换片及酮片机构设计，极大提高生产节拍。产品目前主要应用于大型面板显示行业，为薄膜沉积提供了国产化解决方案。

产品应用：G8.6 Metal/ITO PVD设备出货并量产，主要应用为显示面板金属或金属氧化物走线。

02 R2R卷绕磁控溅射镀设备

提供客制化卷绕镀膜设备及工艺开发：量产型小尺寸（200-800mm）镀膜设备、量产型大尺寸（1200-1800mm）镀膜设备；提供业界最先进薄膜制程技术：溅镀制程、离子源处理、退火处理；提供从试产到量产机型完整服务。基材幅宽从200至2000mm；基材材料：PET、软板等柔性材料；结合PC、PLC、资料库系统，SF-R600机型可实现往复式镀膜，以满足研发需求。

产品应用：R2R卷绕磁控溅射镀膜设备已经在客户端量产，主要应用产品为电磁屏蔽膜。

03 越好PVD连续式磁控镀膜设备

采用单通道直立式设计，设备由上料系统、进出料腔、加热腔、缓冲腔、工艺腔、隔离腔、下料系统等模块组成。可配置等离子清洗（可选）以提高膜层附着力，镀膜源全部采用旋转阴极；独特的基片架设计可调整放片空间；设备工作可靠，合格率高。结合基板架自动回流线设计，可极大提高生产节拍。设备主要应用于ITO、ITO消影、手机背盖颜色膜等。

产品应用：连续式磁控镀膜设备在客户端量产的主要应用为ITO玻璃触控屏。

04 半导体光罩用MASK磁控溅镀设备

此设备是用于在光罩基板表面沉积CrOx、CrNy和CrOxNyCz薄膜的磁控溅镀设备。最大承载基板尺寸：1300mm×950mm，厚度2～15mm。

产品应用：半导体光罩用MASK磁控溅镀设备稳定量产，主要用于半导体光罩基板镀膜。

05 电致变色技术

越好集设备研发、制造工艺、器件技术于一身，可提供EC智能玻璃制造快速复制的解决方案，并可全程提供技术、材料、装备、工艺等方面的支持和服务。

电致变色原理：在上下透明导电层施加电场，驱动离子（通过传导层）、电子进入变色层，使电致变色材料发生电化学反应由无色变为深蓝色，反转电场后，电致变色材料变为无色。

功能：调光、控热、防晒。

应用场景：电致变色设备主要依托公司电致变色技术，主要应用于建筑和交通工具玻璃。建筑：幕墙、阳光房、窗户；交通：汽车、火车、轮船。